Fraunhofer Institut für Elektronenstrahl- und Plasmatechnik
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Elektronenstrahltechnologie
Ansprechpartner
Frank-Holm Rögner

Elektronenstrahltechnologie

Die Erzeugung und Führung des Elektronenstrahles, sein technologiegerechtes Wirken auf dem Material und die Realisierung der dazu erforderlichen Technik sind die Hauptinhalte unserer Arbeit in diesem Arbeitsfeld. 
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Puls-Magnetron-Sputtern
Ansprechpartner
Dr. Torsten Kopte

Puls-Magnetron-Sputtern

Die Kernkompetenz „Puls-Magnetron-Sputtern“ (PMS) beinhaltet die Entwicklung und Anwendung spezieller Vakuumbeschichtungstechnologien, die auf der Nutzung von Magnetron-Gasentladungen bei pulsförmiger Einspeisung der elektrischen Energie mit Frequenzen von 10 ... 100 kHz basieren und die wirtschaftliche Herstellung neuartiger Schichten mit hoher Abscheiderate ermöglichen. 
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Plasmaaktivierte Hochratebedampfung
Ansprechpartner
Prof. Dr. Christoph Metzner

Plasmaaktivierte Hochratebedampfung

Im Fraunhofer FEP wurden dafür Prozesse auf der Grundlage der Kombination der Elektronenstrahl-Hochratebedampfung mit verschieden geführten Bogenentladungen entwickelt (SAD- und HAD-Prozess). 
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